Selfie Project NoStress pleťová maska 10 g
Selfie Project NoStress pleťová maska 10 g
Pleťová maska #NoStress – vyrovnává povrch pleti, odstraňuje již existující skvrny a zabraňuje vzniku nových. Zároveň důkladně čistí a stahuje Póry a zanechává pleť matnou a viditelně hladší. Bioaktivní uhlí spojenec v boji proti nedokonalostem! Má antibakteriální vlastnosti, pohlcuje nečistoty, zmatňuje pleť a stahuje a čistí Póry. Minerální kaolinový jíl důkladně čistí pleť a reguluje produkci mazu. Odstraňuje toxiny, remineralizuje pleť a přináší zklidňující účinek. Kyselina Mandlová 1% má antibakteriální a exfoliační vlastnosti. Reguluje buněčnou obnovu, zlepšuje strukturu a barvu pleti, zklidňuje zanícení, působí na skvrny a akné, hydratuje a vyhlazuje pleť.
- důkladně čistí a stahuje Póry
- s bioaktivním uhlím, kyselinou mandlovou a minerálním kaolinovým jílem
- hydratuje a vyhlazuje pleť
Naneste masku na očištěnou pokožku, vyhněte se okolí očí a rtů. Nechte působit 10-15 minut. Opláchněte teplou vodou a použijte náš hydratační Matující krém. Pamatuj: neustále se starej o svou pleť.
AQUA, Kaolin, GLYCERIN, Magnesium Aluminum Silicate, Betaine, MethylPropanediol, Mandelic Acid, Charcoal powder, ALLANTOIN, Aloe Barbadensis Leaf Juice, Panthenol, Eucalyptus globulus Leaf Oil, Xanthan Gum, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin, Potassium Sorbate, Sodium Benzoate, Diazolidinyl urea.
